一種可以同時(shí)測量反射率、透射率的光學(xué)薄膜測厚儀 產(chǎn)品特征 · 易于安裝· 基于視窗結構的軟件，很容易操作· 先進(jìn)的光學(xué)設計，以確保能發(fā)揮出較佳的系統性能· 基于陣列設計的探測器系統，以確保快速測量· 獨特的光源設計，有著(zhù)較好的光源強度穩定性· 較多可測量5層的薄膜厚度和折射率· 在毫秒的時(shí)間內，可以獲得反射率、傳輸率和吸收光譜等一些參數 · 能夠用于實(shí)時(shí)或在線(xiàn)的厚度、折射率測量· 系統配備大量的光學(xué)常數數據及數據庫· 對于每個(gè)被測薄膜樣品，用戶(hù)可以利用先進(jìn)的軟件功能選擇使用NK數據庫、也可以進(jìn)行色散或者復合模型（EMA）測量分析； · 可升級至MSP（顯微分光光度計）系統，SRM成像系統，多通道分析系統，大點(diǎn)測量。· 通過(guò)模式和特性結構直接測量。· 提供的各種配件可用于特殊結構的測量，例如通過(guò)曲線(xiàn)表面進(jìn)行縱長(cháng)測量。· 2D和3D的圖形輸出和友好的用戶(hù)數據管理界面。 系統配置 型號：SRT100檢測器：雙通道CCD陣列的每個(gè)像素2048光源：氘燈和高功率鹵素燈光傳輸：光纖載物臺：黑色鋁合金樣品測量平臺輕松調整高度，100mmx100mm尺寸通訊：USB測量類(lèi)型：薄膜厚度，反射光譜，透射光譜，折射率軟件：TFProbe 2.3電腦需要：常規配置電源：110 - 240伏交流電/ 50 - 60Hz的，1.5A保修：1年 規格波長(cháng)范圍：250nm到1100 nm光斑尺寸：500μm至5mm樣品尺寸：100mmx100mm基板尺寸：較多可至50毫米厚測量厚度范圍*：5nm-50μm測量時(shí)間：較快2毫秒 準確度：優(yōu)于0.5％（通過(guò)使用相同的光學(xué)常數，讓橢偏儀的結果與熱氧化物樣品相比較）重復性誤差*：小于1A     應用: 半導體制造（PR，Oxide, Nitride..) 液晶顯示（ITO，PR，Cell gap... ..） 醫學(xué)，生物薄膜及材料領(lǐng)域等油墨，礦物學(xué)，顏料，調色劑等醫藥，中間設備光學(xué)涂層，TiO2, SiO2, Ta2O5... .. 半導體化合物在MEMS/MOEMS系統上的功能性薄膜非晶體，納米材料和結晶硅