zfcz真空磁控濺射+蒸發(fā)鍍膜機      性能       真空室結構立式雙開(kāi)門(mén)、立式單門(mén)、臥式單開(kāi)門(mén)、后置真空獲得系統      電源類(lèi)型電阻蒸發(fā)電源、離子轟擊電源、燈絲電源、脈沖偏壓電源、直流磁控電源、中頻磁控電源      鍍膜室尺寸Ф900×H1100mmФ1000×H1200mmФ1200×H1400mmФ1400×H1600mmФ1600×H1800mmФ1800×H2000mm      鍍膜室材質(zhì)優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì)      極限真空8.0×10-4Pa      抽氣時(shí)間      (空載）      從大氣抽至6.5.0×10-2Pa≤8分鐘      真空獲得系統擴散泵或分子泵+羅茨泵+機械泵+維持泵（型號可根據客戶(hù)的需求進(jìn)行配置）      鍍膜方式蒸發(fā)鍍膜+磁控濺射鍍膜      鍍膜種類(lèi)金屬膜、半透明膜、不導電膜、電磁屏蔽膜、介質(zhì)膜等      磁控靶類(lèi)型矩形磁控靶、圓柱形磁控靶、孿生磁控對靶      磁控偏壓電源功率及靶數量根據不同鍍膜工藝和客戶(hù)的需求進(jìn)行選配      工件回轉較大有限直徑6軸 Ф260mm6軸 Ф280mm       8軸 Ф260mm6軸 Ф360mm       8軸 Ф280mm6軸 Ф420mm       8軸 Ф350mm6軸 Ф460mm       8軸 Ф380mm6軸 Ф560mm       8軸 Ф460mm      蒸發(fā)電極標配2對      蒸發(fā)功率35KW      整機總功率85KW      工藝氣體2路或3路工藝氣體流量控制及顯示系統 選配自動(dòng)加氣系統      冷卻方式水循環(huán)冷卻方式，另需配冷卻水塔或工業(yè)冷水機。（客戶(hù)提供）      工件轉架      轉動(dòng)方式行星式公自轉、變頻調速（可控可調）      控制方式手動(dòng)/自動(dòng)一體化方式、觸摸屏操作、PLC或計算機控制      報警及保護對缺水、過(guò)流過(guò)壓、斷路等異常情況進(jìn)行報警，并執行相應保護措施。      設備占地面積W3m×L3mW3m×L3mW3.5m×L4mW5m×L5mW6m×L6mW6m×L8m      其他技術(shù)參數水壓≥0.2MPa、水溫≤25℃、氣壓0.5-0.8MPa      備 注鍍膜設備的具體配置可根據客戶(hù)的鍍膜產(chǎn)品工藝要求進(jìn)行設計。