<div class="ncpzs_title"><a name="#cpxh"></a>產(chǎn)品型號</div> <div style="margin-top: 20px; float: left; width: 100%;"> <p><strong><span style="FONT-SIZE: x-small">HD-JCW-Z1400C</span></strong></p> </div> <div class="ncpzs_title"><a name="#cpjs"></a>產(chǎn)品介紹</div> <div style="margin-top: 20px; float: left; width: 100%;"> <p>臥式連續磁控濺射鍍Al膜生產(chǎn)線(xiàn)共設計有七個(gè)真空腔體部分，靠前部分為進(jìn)口室，第二部分為進(jìn)口緩沖室，第三部分為進(jìn)口傳送室，第四部分為工藝室，第五部分為出口傳送室，第六部分為出口緩沖室，第七部分為出口室；工藝室內布置六個(gè)旋轉陰極，采用直流磁控濺射工藝沉積高質(zhì)量的Al電極薄膜；設備設計加工尺寸為寬1100mm，長(cháng)1400mm的平面基板材料，生產(chǎn)加工周期可優(yōu)化到120秒；生產(chǎn)線(xiàn)采用分子泵抽氣形成氣氛隔離的先進(jìn)設計，生產(chǎn)線(xiàn)共配有十八臺渦輪浮分子泵以獲得的隔離、穩定的抽速和均勻的氣體分布。</p> </div> <div class="ncpzs_title"><a name="#sctd"></a>生產(chǎn)線(xiàn)技術(shù)特點(diǎn)</div> <div style="margin-top: 20px; float: left; width: 100%;"> <p>設備設計尺寸：<br />生產(chǎn)線(xiàn)主體總長(cháng)度：21m（以實(shí)際設計為準）；<br />工藝室：9600mm（L）×2000mm（W）×600（H）×1個(gè)（以實(shí)際設計為準）；<br />非鍍膜室：1700mm（L）×1800mm（W）×600（H）×6個(gè)（以實(shí)際設計為準）；<br />門(mén)閥：150mm（L）×1800mm（W）×600（H）×6個(gè)（以實(shí)際設計為準）；<br />裝卸架：1600mm（L）×1800mm（W）×600（H）×2個(gè)（以實(shí)際設計為準）；<br />升降架：1600mm（L）×1800mm（W）×600（H）×2個(gè)（以實(shí)際設計為準）；<br />回架：33000mm（L）×1800mm（W）×150（H）×1套（以實(shí)際設計為準）；</p> </div> <div class="ncpzs_title"><a name="#jscs"></a>技術(shù)參數</div> <div style="margin-top: 20px; float: left; width: 100%;"> <p>生產(chǎn)線(xiàn)設計技術(shù)指標：<br />產(chǎn)品尺寸：1×1100mm×1400mm×2-8mm平板型基板材料；<br />基片架尺寸：1500mm（L）×1300mm（W）（以實(shí)際設計為準）<br />鍍膜材料厚度要求：SiO2膜和AZO透明導電膜<br />生產(chǎn)周期：120s/架</p> </div>