FTO導電玻璃是一種摻氟的SnO2透明材料，被廣泛用于光伏太陽(yáng)能電池基材、電致色玻璃、液晶顯示、光催化等領(lǐng)域，也常用于柔性薄膜PET基材上的導電材料。在光伏領(lǐng)域，如鈣鈦礦電池項目中，FTO用于PI層的導電基材，為了使正負較不發(fā)生接觸，因此需要將FTO導電玻璃采用激光刻蝕或化學(xué)刻蝕成一條條形狀，與金屬電較形成井字形。常見(jiàn)的FTO激光刻蝕圖形主要有刻線(xiàn)或刻面（如2.5*2.5cm的FTO導電玻璃，刻蝕掉兩邊2/3的FTO，保留中間1/3的FTO）。常見(jiàn)的FTO導電玻璃或薄膜刻蝕方法主要有激光刻蝕以及化學(xué)刻蝕。激光刻蝕FTO的原理是利用高能量的激光光束照射FTO表面，控制激光焦點(diǎn)在一個(gè)小區域內，在瞬間（通常這個(gè)時(shí)間在幾個(gè)納秒時(shí)間內）的高能量激光作用下，汽化FTO，留下一條汽化后的線(xiàn)槽，在保證線(xiàn)槽的干凈、無(wú)毛刺、無(wú)殘留的前提條件下，不傷及基材玻璃或PET薄膜，同時(shí)能保證線(xiàn)槽兩邊刻斷，無(wú)導通性。而刻面是在刻線(xiàn)的基礎條件下，將要刻蝕的面填充為無(wú)數條線(xiàn)，通過(guò)激光刻蝕掃描線(xiàn)條后，形成一整個(gè)面的刻蝕，并能夠保證不傷及玻璃，同時(shí)還能保證玻璃的透光率，無(wú)殘留。通常情況下，武漢元祿光電導電玻璃激光刻蝕機的小線(xiàn)寬可以小于10微米，根據FTO方阻或者說(shuō)厚度決定線(xiàn)寬，也跟所使用的激光的波長(cháng)、脈沖寬度、脈沖頻率、單脈沖能量、刻蝕速度有很大的關(guān)系。一般條件下普通的激光刻蝕機刻蝕FTO材料的線(xiàn)寬小于20微米，而要做到10微米以下的線(xiàn)寬或者線(xiàn)間距小于10微米，則需要使用超短脈沖激光刻蝕機，如532nm綠光皮秒激光刻蝕機或飛秒激光刻蝕機等。而刻面如大面積去除FTO鍍層（20*2000mm范圍），可選用激光清邊機去除P4層材料一樣處理，保證加工效果及加工生產(chǎn)需要的加工效率需求。化學(xué)刻蝕FTO的原理是利用化學(xué)試劑，腐蝕基材上的FTO或其他導電材料，以鈣鈦礦電池為例，通常采用鹽酸等材料進(jìn)行蝕刻。化學(xué)蝕刻FTO與激光刻蝕FTO相比，前者成本更加低廉，在大批量生產(chǎn)加工過(guò)程中效率更高，前期投入成本更低。但缺點(diǎn)也明顯，保真性差，有耗材，對環(huán)境會(huì )造成一定的污染，可控性差，在同階段的刻蝕領(lǐng)域對比，化學(xué)刻蝕相比較于激光刻蝕的精度更低，良品率低，會(huì )造成玻璃刻蝕線(xiàn)槽后產(chǎn)生FTO殘留，影響導電性。相比較而言，激光刻蝕方法想做成什么樣都可以，不受圖形限制，同等級別條件下，可以做到更加準確，線(xiàn)寬更窄，線(xiàn)間距更小，操作簡(jiǎn)便，隨時(shí)都可以導入圖形或直接繪制圖形加工，不受限制，特別適合于實(shí)驗室階段或前期生產(chǎn)階段。而后期大批量生產(chǎn)，從穩定性、良品率、耗材、環(huán)保、綜合成本等多種因素考慮，激光刻蝕的優(yōu)勢也更加明顯，這也是為何在觸摸屏、光伏、電致色玻璃等領(lǐng)域已經(jīng)大規模采用激光刻蝕機而放棄使用化學(xué)刻蝕的主要原因。