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一、企業(yè)概況：
無(wú)錫中晶材料科技有限公司是有經(jīng)驗從事 “平板狀氧化鋁研磨拋光微粉”(TWA 系列產(chǎn) 品 ) 的生產(chǎn)、研發(fā)、銷(xiāo)售于一體的科技型企業(yè)，已通過(guò)ISO：9001-2000全部質(zhì)量標準，具有全部先進(jìn)水平的生產(chǎn)線(xiàn)和高等的員工隊伍, 擁有 Coulter Multisizer II型粒度分析儀和其它準確的質(zhì)控儀器。該產(chǎn)品填補了國內在高等磨料上的空白 , 改變了我國長(cháng)期依賴(lài)進(jìn)口的局面 , 現已穩定地供應給美國、日本、韓國、馬來(lái)西亞、寶島地區以及國內眾多企業(yè)。
二、產(chǎn)品介紹： 該研磨拋光微粉是以工業(yè)氧化鋁為主要原料 , 采用特殊礦化劑、高溫控制晶粒形狀及大小 , 經(jīng)特殊處理和嚴格的分級而制成。硬度僅次于金剛石 , 是非常的準確研磨拋光、研磨微粉。
1、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的性能 : 平板型氧化鋁研磨拋光微粉顆粒呈獨特的平板狀結構 , 硬度高達莫氏九級 , 磨削力強 , 不易產(chǎn)生劃痕 , 可得到效率高率、高精度的被加工表面 , 有特殊設計的粒度分布 , 質(zhì)量和日本 FUJIMI公司相當。
2、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的特點(diǎn)
1）平板型氧化鋁研磨拋光微粉與其它氧化鋁研磨拋光微粉的非常大區別是：片狀，硬度高，粒度均勻。
2）特點(diǎn)為：
A、形狀為平板狀，即片狀，使磨擦力加大，提高了磨削速度，提高了工效，因此可減少磨片機的數量、人工和磨削時(shí)間，如顯像管玻殼磨削工效能提高3-5倍；
B、由于形狀為平板狀，故對于被磨對象（如半導體硅片等）來(lái)說(shuō)不易劃傷，合格品率可提高10%至15%，如半導體硅片，其合格品率一般能達到99%以上；
C、由于硬度比普通氧化鋁研磨拋光微粉高，故用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要少，如果磨同樣數量的產(chǎn)品，其用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要節約40%至50%；
D、與國外同類(lèi)產(chǎn)品相比，質(zhì)量達到或超過(guò)國外同類(lèi)產(chǎn)品，品質(zhì)已達到全部標準，但產(chǎn)品價(jià)格只有國外同類(lèi)產(chǎn)品的60%--70%；
E、由于平板型氧化鋁研磨拋光微粉的優(yōu)良性能，故加工的產(chǎn)品合格品率高，質(zhì)量穩定，生產(chǎn)成本只有原來(lái)的50%-60%。（具體數據可見(jiàn)用戶(hù)報告）
3、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的用途 :
1）電子行業(yè) : 單晶硅片、壓電石英晶體、化合物半導體的研拋。
2）玻璃行業(yè) : 硬質(zhì)玻璃和顯象管玻殼的加工。
3）涂附行業(yè) : 特種涂料和等離子噴涂的填充劑。
4）金屬和陶瓷加工業(yè)。
氧化鋁(AL2O3)性能指標：
   物理指標：
  
化學(xué)名稱(chēng) 外觀(guān) 密度 莫氏硬度 顯微硬度
α- AL2O3 白色 3.95-3.98g/cm3 9.0 2200-2300kg/mm

 化學(xué)指標：
　　
化學(xué)成份 指標(%) 測度結果(%)
AL2O3 ＞99.0 99.36
SiO2 ＜0.2 0.027
Na2O ＜0.6 0.35
Fe2O3 ＜0.1 0.03

產(chǎn)品粒度：
粒度號 平均粒度(?m)
TWA50 44.5?2.5
TWA45 36.0?2.3
TWA40 31?2.0
TWA35 25.5?1.7
TWA30 21.5?1.5
TWA25 17.4?1.3
TWA20 14.2?1.0
TWA15 10.5?0.8
TWA12 8.2?0.6
TWA9 6.4?0.6
TWA5 4.7?0.5
TWA3 3.1?0.4

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