本系列產(chǎn)品是引進(jìn)法國（SAINTN）集團和美國（Rodel & Onden ）配方專(zhuān)利生產(chǎn)，該漿料的穩定性高，二氧化硅的含量不低于30%（wt%），平均分散粒徑為60nm，ph=11-12，呈強烈的藍相的白色液體。本品儲存溫度范圍大，經(jīng)試驗，低溫冷凍后，不影響使用性能。本氧化硅拋光液中含高度晶化的納米二氧化硅顆粒，再漿液中呈現穩定的空間立體網(wǎng)絡(luò )，不觸變、不凝膠，且金屬離子含量控制的非常好。具有去除速率高、使用方便、拋光效果好等特點(diǎn)。拋光后晶片表面的粗造度可以達到0.2nm以下，同時(shí)可以提高晶片的粗造度和平行度等，而且無(wú)劃傷，無(wú)拋光霧。 特點(diǎn) 1：拋光速率高：拋光速率可以達到0.6-1.2um.min,降低拋光工藝所需要的時(shí)間，高溫不出現非均化蝕坑等優(yōu)點(diǎn)，提高生產(chǎn)效率，循環(huán)使用，稀釋比例大 2：使用方便：本拋光液使用于通用的拋光工藝。 3：拋光效果好:該類(lèi)產(chǎn)品具有濃縮度高、磨料粒徑小、表面張力小、對有機物、金屬離子及顆粒容易清洗，拋光表面粗造度好無(wú)劃傷，不會(huì )出現拋光霧。  形    狀：本產(chǎn)品屬乳白膠體水溶液，無(wú)毒、無(wú)臭。 技術(shù)指標：二氧化硅含量30% 。PH值11-12。           比重d20度(c)  1.20-1.30。  鈉含量小于0.03%。  顆粒分布15-80nm納米。 粘度（25℃，mPa.s）≤5,分散度＜0.2 用   途：用于藍寶石晶片，砷化鎵晶片，玻璃硬盤(pán), 單晶硅片及半導體化合物晶片、碳化硅晶片的（CMP)化學(xué)表面拋光工藝等表面拋光。   使用方法 建議該漿料和去離子水的配比為1：2-1：50，也可根據實(shí)際工藝要求改變配比。 運輸及保存 1.運輸與存放溫度為5–50℃，25℃為較佳存放溫度，存放時(shí)應避光，以避免漿料變質(zhì)。 2.保質(zhì)期一年，建議半年使用。 3.避免金屬、顆粒污染，避免強電解質(zhì)的接觸。