產(chǎn)品名稱(chēng):MSC系列磁控濺射鍍膜機 產(chǎn)品描述:MSC型磁控濺射真空鍍膜機是立式單開(kāi)門(mén)非平衡磁控反應濺射鍍膜機。此設備所沉積的膜層在致密度、均勻度、純度、硬度等方面均有提高。廣泛應用于手表、眼鏡、通訊、電子、機械、裝飾和交通航空等領(lǐng)域的高檔裝飾和功能薄膜。 主要特點(diǎn)：        1、沉積速率快，溫升小，能較好抑制打火及靶中毒現象； 2、濺射釋放的高能量使膜層密度和附著(zhù)力有顯著(zhù)提高； 3、觸摸屏+PLC,可實(shí)現全自動(dòng)控制，自動(dòng)/手動(dòng)隨時(shí)切換； 4、鍍膜室容積大，裝載量大，生產(chǎn)效率高。 5、工件架采用公轉結構，可設置自動(dòng)正反轉，產(chǎn)品均勻**好； 6、整機配置合理，抽氣速率快，噪聲小，耗能低；   基本配置： 1、鍍膜室、閥門(mén)、管道均采用不銹鋼制造，立式、單開(kāi)門(mén)結構，真空室有效直徑自Φ1000mm～Φ1800mm；； 2、真空系統由機械泵、旋片泵、羅茨泵和帶冷阱高真空油擴散泵或分子泵組成； 3、鍍膜系統采用2～8套平面靶或柱靶，配有2～8個(gè)直流電源或中頻電源； 4、輔助抽氣系統采用一臺低溫水汽捕集器； 5、充氣系統采用1～4路氣體流量計及流量控制（顯示）儀控制； 6、電控系統設置電路過(guò)載、斷水、斷氣聲光報警裝置； 7、控制系統（觸摸屏+PLC），實(shí)時(shí)顯示詳細參數，全自動(dòng)控制整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程，并自動(dòng)存儲工藝參數。 8、可根據客戶(hù)要求配多套靶源。