湘潭宏鋒機械真空磁控濺射蒸發(fā)玻璃鍍膜機   磁控濺射鍍膜機主要是使用直流（或中頻）磁控濺射，可適應廣泛鍍膜靶材，如：銅、鈦、鉻、不繡鋼、鎳等金屬材料，可以利用濺射工藝進(jìn)行鍍膜，可提高膜層的附著(zhù)力、重復性、致密度、均勻度等特點(diǎn)。 特點(diǎn)及基本參數 ●臥式線(xiàn)體結構，可實(shí)現單面同時(shí)鍍膜 ●生產(chǎn)效率,速度可達1分鐘/節拍 ●模組化設計,維護方便 ●鍍膜工藝成熟,成品率高 ●直流磁控濺射陰極可隨客戶(hù)要求選擇 ●真空系統由機械泵、羅茨泵、擴散泵(分子泵)組成 ●線(xiàn)體尺寸可隨客戶(hù)要求定做   1) 真空室體材料采用 SUS304 ，真空室內壁進(jìn)行拋光處理，外壁采用拋光后噴珠處理。2) 真空室之間采用門(mén)閥—插板閥隔開(kāi)，可以實(shí)現有效隔斷，穩定工藝氣體。目前我們公司采用插板閥設計，它比目前國內通用的翻板閥密封效果更好，更耐用。3) 傳動(dòng)采用磁導向，保障傳動(dòng)的穩定性。整條生產(chǎn)線(xiàn)的各段速度采用變頻調速電機驅動(dòng)，運行速度可調節。4) 電氣控制系統：觸摸屏與 P L C 自動(dòng)控制，人機對話(huà)方式來(lái)實(shí)現系統的數據顯示、操作與控制技術(shù)參數1) 極限真空壓力：6× 1 0E-4 Pa2) 平均生產(chǎn)周期：根據產(chǎn)品確定3) 基片架尺寸：可以根據要求定做4) 膜層均勻性: ± 3％先進(jìn)的移動(dòng)磁場(chǎng)技術(shù)大大提高了靶材利用率分段式加熱設計，有利于工藝優(yōu)化。