EDI超純水設(shè)備又稱電去離子設(shè)備，一般用于電子光學(xué)行業(yè)生產(chǎn)用水，如半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝用水、電子試劑用水,電子管涂敷配液用水、液晶顯示器屏面清洗用水、硅片清洗用水、光學(xué)鏡片清洗用水、各種高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模集成電路等生產(chǎn)用水需求． 濱潤環(huán)保服務(wù)內(nèi)容：   包括設(shè)備工藝設(shè)計(jì)、系統(tǒng)制造、安裝、現(xiàn)場安裝、系統(tǒng)試裝調(diào)整、設(shè)備保修、及售后服務(wù)等。 設(shè)計(jì)參考標(biāo)準(zhǔn)：     1）建設(shè)方提供的相關(guān)技術(shù)資料，技術(shù)說明，及基本技術(shù)要求；     2）國家現(xiàn)行有關(guān)設(shè)計(jì)規(guī)范、施工及驗(yàn)收規(guī)范、質(zhì)量評定標(biāo)準(zhǔn)；     3）反滲透系統(tǒng)設(shè)計(jì)依據(jù)美國；     4）ZBG98020-90《水處理設(shè)備系列型譜》；     5）電力裝置的繼電保護(hù)和自動裝置設(shè)計(jì)規(guī)范(GB50062-1992)；     6) 工業(yè)與民用電力裝置的接地設(shè)計(jì)規(guī)范(GBJ65-1983)；     7）GB/T11446.1-1997國家電子級超純水標(biāo)準(zhǔn)Ⅰ級≥18MΩ/CM （25℃）95％以上時間；