主營(yíng):濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉靶材,平面靶材
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ITO靶;二氧化硅靶;高純硅靶4-7N;高純鉻靶3N5;TFT鉬靶;鉬鈮靶;鎢鈦靶90/10wt%;高純鋁靶等。
1.5光學(xué),光通信,光存儲行業(yè)
銀靶;鉭靶;硫化鋅靶;高純鋁靶;硅靶。
2常用靶形
常用靶形有電弧靶、平面靶、旋轉管靶。
2.1平面靶材利用率提高方式
(1)改變磁鐵運動(dòng)方向
(2)改變磁力線(xiàn)分布寬度和高度
電議
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