尤特制備的AZO靶材，客供太陽(yáng)能光伏和low-e玻璃鍍膜用，AZO靶材能制備比例：98:2、99:1，化學(xué)式: AZO。    磁控濺射靶材廣泛應用于用于建筑/汽車(chē)玻璃工業(yè)、薄膜太陽(yáng)能工業(yè)、平面顯示工業(yè)、裝飾/功能鍍膜工業(yè)。隨著(zhù)國內靶材行業(yè)研發(fā)的投入和發(fā)展，國內已有靶材供應商、制造商的生產(chǎn)出來(lái)的靶材達到了進(jìn)口的水平。在廣州，尤特新材料成為全球全球較好個(gè)研制最長(cháng)、最厚旋轉靶材的制造商，隨著(zhù)研發(fā)的持續投入，國內靶材行業(yè)的未來(lái)值得期待。     磁控濺射是一種物理氣相沉積的。濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，具有設備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著(zhù)力強等優(yōu)點(diǎn)。因為是在低氣壓下進(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。 平面靶材主要產(chǎn)品目錄 Planar Target List 1. 鉻靶（Cr Target） 2. 硅靶（Si Target） 3. 鈦靶（Ti Target ） 4. 石墨靶（C Target） 5. 銀靶（ Ag Target） 6. 銅靶（ Cu Target）  7. 鈦鋁合金靶（TiAl Alloy Target）  8. 鎳鉻合金靶（NiCr Alloy Target）  9. 氧化鈦靶（TiOx Target）  10. 鉬鈮靶 （MoNb Target) 11. 鋁釹靶 （AlNd Target) 12. 氧化鈮靶 (NbOx Target） 13. 氧化鋅鋁靶 (AZO Target) 14. 氧化鋅靶 (i-ZnO Target ) 15. 鉬靶 (Mo Target)