半導(dǎo)體芯片的需求市場(chǎng)比較龐大，集中在手機(jī)、PC、、AI、物聯(lián)網(wǎng)、電子汽車、5G等領(lǐng)域，龐大的市場(chǎng)還是手機(jī)、PC、可穿戴設(shè)備等電子消費(fèi)產(chǎn)品。大部分國(guó)家電子產(chǎn)品消費(fèi)市場(chǎng)都不景氣，且短期內(nèi)很難迎來(lái)報(bào)復(fù)性增長(zhǎng)。中國(guó)的集成電子領(lǐng)域是一個(gè)穩(wěn)步增長(zhǎng)的發(fā)展階段，中芯國(guó)際等優(yōu)勢(shì)企業(yè)像雨后春筍般涌現(xiàn)出來(lái)。微電子靶材這塊，該屬于第二梯隊(duì)，梯隊(duì)仍然是日本的公司和美國(guó)的霍尼爾等公司。在過(guò)去十幾年里，中國(guó)的微電子靶材從零開(kāi)始，能發(fā)展到目前的水平，應(yīng)該說(shuō)成果是非常顯著的。已經(jīng)不明顯了，國(guó)內(nèi)的微電子靶材基本已經(jīng)與國(guó)際****企業(yè)處于同一競(jìng)爭(zhēng)水平。原來(lái)談到痛點(diǎn)，可以說(shuō)渾身都是痛。大部分國(guó)家的微電子領(lǐng)域，年平均的發(fā)展速度大約為4%到5%。 ito靶材在光學(xué)薄膜領(lǐng)域中的應(yīng)用：增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等。在建筑玻璃方面的應(yīng)用：陽(yáng)光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。在防護(hù)涂層中的應(yīng)用：飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)的葉片、汽車鋼板、散熱片等。在硬質(zhì)涂層中的應(yīng)用：切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。在太陽(yáng)能利用領(lǐng)域的應(yīng)用：太陽(yáng)能集熱管、太陽(yáng)能電池等。 芯片制造設(shè)備，半導(dǎo)體材料對(duì)于芯片產(chǎn)業(yè)的重要性也是不言而喻。半導(dǎo)體材料可以分為晶圓材料和封裝材料,中國(guó)的半導(dǎo)體行業(yè)正處于成長(zhǎng)關(guān)鍵期，材料和技術(shù)仍依賴***，受到國(guó)際市場(chǎng)影響，圍繞半導(dǎo)體行業(yè)的焦慮在持續(xù)蔓延。2018年大部分國(guó)家半導(dǎo)體規(guī)模增速達(dá)12.4%。特別是存儲(chǔ)器市場(chǎng)。增速高達(dá)61.49%。一方面，存儲(chǔ)芯片需求旺盛，價(jià)格大幅上漲，另一方面，物聯(lián)網(wǎng)、汽車電子、AI等新應(yīng)用拉動(dòng)下游需求。半導(dǎo)體材料主要分為晶圓制造材料和封裝材料，料包括硅片（37%）、光刻膠、光刻膠配套試劑、濕電子化學(xué)品、電子氣體、P拋光材料、以及靶材等；、引線框架、樹(shù)脂、鍵合絲、錫球、以及電鍍液等。在芯片制造設(shè)備領(lǐng)域。美國(guó)、日本、荷蘭依然占主要地位。國(guó)內(nèi)的芯片制造與韓國(guó)和歐洲的企業(yè)相比都相距甚遠(yuǎn)。 色彩一直是時(shí)尚設(shè)計(jì)的熱點(diǎn)，而手機(jī)配色也是F設(shè)計(jì)師們?cè)O(shè)計(jì)的重點(diǎn)之一。5G時(shí)候手機(jī)后蓋去金屬化，然而不管是玻璃、陶瓷、塑膠材質(zhì)的手機(jī)外觀結(jié)構(gòu)件，F(xiàn)設(shè)計(jì)師們都會(huì)考慮酷炫紋理、金屬質(zhì)感、亮銀色、陶瓷光澤、漸變色等效果，而這些良好的裝飾效果都離不開(kāi)PVD真空鍍膜。金屬中框也需要和后蓋保持同樣炫麗的外觀，iPhoneXS金色及太空灰色系列不銹鋼中框就是采用的PVD色彩工藝。磁控真空鍍膜的源頭材料，又稱濺射靶材。高純鋁及鋁合金是目前使用廣泛的導(dǎo)電層薄膜材料之一。和超大規(guī)模集成電路芯片的制造對(duì)濺射靶材金屬純度的要求相比。太陽(yáng)能電池用鋁靶的金屬純度略低，99.995%（4N5）以上。鋁靶、銅靶用于導(dǎo)電層薄膜，鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜。 UVTM的金屬靶材作為應(yīng)用于手機(jī)玻璃蓋板的重要靶材產(chǎn)品，已獲得多家手機(jī)玻璃蓋板生產(chǎn)客戶的認(rèn)可，并已實(shí)現(xiàn)批量供貨。高純金屬靶材。 鎳靶、Ni、鈦靶、Ti靶、Zn、、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。 靶材晶粒尺寸和結(jié)晶方向的影響同成分的靶材,晶粒尺寸較小的靶材比晶粒尺寸大的沉積速率快,這主要是由于晶界在濺射過(guò)程中更容易受到攻擊,晶界越多,成膜就越快。4.靶材純度和材質(zhì)均勻性的影響濺射靶材的純度對(duì)所鍍薄膜的性能影響很大。當(dāng)表面清潔的玻璃進(jìn)入高真空鍍膜腔室內(nèi),如果靶材純度不夠,在電場(chǎng)及磁場(chǎng)的作用下,靶材中的雜質(zhì)顆粒在濺射過(guò)程中會(huì)附著到玻璃表面,造成部分的膜層不牢固出現(xiàn)脫膜現(xiàn)象。 色彩一直是時(shí)尚設(shè)計(jì)的熱點(diǎn)，而手機(jī)配色也是F設(shè)計(jì)師們?cè)O(shè)計(jì)的重點(diǎn)之一。5G時(shí)候手機(jī)后蓋去金屬化，然而不管是玻璃、陶瓷、塑膠材質(zhì)的手機(jī)外觀結(jié)構(gòu)件，F(xiàn)設(shè)計(jì)師們都會(huì)考慮酷炫紋理、金屬質(zhì)感、亮銀色、陶瓷光澤、漸變色等效果，而這些良好的裝飾效果都離不開(kāi)PVD真空鍍膜。金屬中框也需要和后蓋保持同樣炫麗的外觀，iPhoneXS金色及太空灰色系列不銹鋼中框就是采用的PVD色彩工藝。磁控真空鍍膜的源頭材料，又稱濺射靶材。高純鋁及鋁合金是目前使用廣泛的導(dǎo)電層薄膜材料之一。和超大規(guī)模集成電路芯片的制造對(duì)濺射靶材金屬純度的要求相比。太陽(yáng)能電池用鋁靶的金屬純度略低，99.995%（4N5）以上。鋁靶、銅靶用于導(dǎo)電層薄膜，鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜。 UVTM的金屬靶材作為應(yīng)用于手機(jī)玻璃蓋板的重要靶材產(chǎn)品，已獲得多家手機(jī)玻璃蓋板生產(chǎn)客戶的認(rèn)可，并已實(shí)現(xiàn)批量供貨。 ito靶材在光學(xué)薄膜領(lǐng)域中的應(yīng)用：增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等。在建筑玻璃方面的應(yīng)用：陽(yáng)光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。在防護(hù)涂層中的應(yīng)用：飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)的葉片、汽車鋼板、散熱片等。在硬質(zhì)涂層中的應(yīng)用：切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。在太陽(yáng)能利用領(lǐng)域的應(yīng)用：太陽(yáng)能集熱管、太陽(yáng)能電池等。靶材晶粒尺寸和結(jié)晶方向的影響同成分的靶材,晶粒尺寸較小的靶材比晶粒尺寸大的沉積速率快,這主要是由于晶界在濺射過(guò)程中更容易受到攻擊,晶界越多,成膜就越快。4.靶材純度和材質(zhì)均勻性的影響濺射靶材的純度對(duì)所鍍薄膜的性能影響很大。當(dāng)表面清潔的玻璃進(jìn)入高真空鍍膜腔室內(nèi),如果靶材純度不夠,在電場(chǎng)及磁場(chǎng)的作用下,靶材中的雜質(zhì)顆粒在濺射過(guò)程中會(huì)附著到玻璃表面,造成部分的膜層不牢固出現(xiàn)脫膜現(xiàn)象。