芯片制造對濺射靶材金屬純度的要求較高，通常要達到99.9995%以上，而平板顯示器、太陽(yáng)能電池分別要求達到99.999%、99.995%以上即可。除了純度之外，芯片對濺射靶材內部微觀(guān)結構等也設定了極其苛刻的標準，需要掌握生產(chǎn)過(guò)程中的關(guān)鍵技術(shù)，并經(jīng)過(guò)長(cháng)期實(shí)踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品。半導體制造流程當中，濺射靶材無(wú)疑是重中之重的原材料，其質(zhì)量和純度對半導體產(chǎn)業(yè)鏈的后續生產(chǎn)質(zhì)量起著(zhù)關(guān)鍵性作用。非常高純度金屬及濺射靶材是電子材料的重要組成部分，濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應用等環(huán)節。其中，靶材制造和濺射鍍膜環(huán)節是整個(gè)濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈中的關(guān)鍵環(huán)節。中國半導體工業(yè)的相對落后導致了高純度濺射靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚。 競爭格局：海外企業(yè)主要，國內迎頭趕上。當前該領(lǐng)域競爭格局以攀時(shí)、世泰科、賀利氏、愛(ài)發(fā)科、住友化學(xué)、JX金屬等為代表的國外少數幾家跨國集團占據主要地位，其中攀時(shí)、世泰科等廠(chǎng)商是大部分國家鉬靶材的主要供應商，住友化學(xué)、愛(ài)發(fā)科等廠(chǎng)商占據了大部分國家鋁靶材的大部分市場(chǎng)，三井礦業(yè)、JX金屬、優(yōu)美科等廠(chǎng)商是大部分國家ITO靶材的主要供應商，愛(ài)發(fā)科、JX金屬等廠(chǎng)商是大部分國家銅靶材的主要供應商。鋁靶:目前國內液晶顯示行業(yè)用鋁靶材主要是日資企業(yè)主要。外企方面:愛(ài)發(fā)科電子材料大約占據國內50%左右的市場(chǎng)份額。愛(ài)發(fā)科電子材料幾乎壟斷著(zhù)國內銅靶材市場(chǎng)，市場(chǎng)占有率在80%以上。鉬靶:具體分為條靶、寬靶和管靶3種。其中，4.5代、5.5代和6代線(xiàn)一般使用寬幅鉬靶。而8.5代及以上世代線(xiàn)用使用組合條靶或管靶。 半導體靶材市場(chǎng)規模估算：濺射靶材在半導體材料中占比約為3%。半導體材料主要包括晶圓制造材料和封裝材料，濺射靶材在晶圓制造材料和封裝材料的占比均在3%左右，根據SEMI的統計數據，2015年半導體材料總銷(xiāo)售額達435億美元，其中晶圓制造材料占56%，估算得到大部分國家半導體靶材用量約為12-13億美元。靶材市場(chǎng)規模估算：2015年大部分國家平板顯示產(chǎn)值達到1480億美元，我們根據等****公司成本占比估算平板顯示上游材料約占面板產(chǎn)值60%，平板顯示材料總體市場(chǎng)規模約在900億美元左右，其中靶材占比在3%-4%，因此大部分國家面板靶材市場(chǎng)規模約為27-36億美元。 日韓貿易戰中，日本列入限制出口名單的高純度材料，其主要用途為半導體的濕式刻蝕。典型的單晶硅片加工工藝流程為：晶棒裁切-切段-切方-滾磨-拋光-切割-清洗-檢驗-包裝。靶材公司擁有完整的硅材料檢測手段，在居里點(diǎn)，如果把鐵磁材料加熱到其居里溫度之上，鐵磁材料轉變?yōu)轫槾挪牧希浯牌帘涡獙⑾В牧蠈⒌玫浇鉀Q。這種方法的缺點(diǎn)是需要一個(gè)加熱裝置來(lái)維持鐵磁靶材溫度在其居里點(diǎn)之上，并要對鐵磁靶的溫度實(shí)時(shí)監測。另外，在400℃~1100℃，如果把靶材加熱至該溫區可能導致無(wú)法在基片上成膜，或損壞其他真空部件。150℃~200℃將產(chǎn)生退磁現象，而無(wú)法恢復原有磁性。采用對靶磁控濺射系統，磁性膜，且不必大幅度升高基片溫度。用來(lái)制備磁性Fe、Ni及其磁性合金膜。