旋轉靶材相對于平面靶材具有很多的優(yōu)點(diǎn)，I)利用率高(70%以上)。甚至可以達到90%;2)濺射速度快，為平面靶的2-3倍；3)有效地減少打弧和表面掉渣，工藝穩定性好坐寸ο對于旋轉鍍膜靶材，要求旋轉靶`材為單根整體，或分段焊接在同一襯管上。以目前技術(shù)條件，旋轉靶材的制備方法主要包括熱等靜壓法、熱壓燒結法和澆鑄法，以上工藝各有優(yōu)缺點(diǎn)，但是對不同尺寸的靈活控制難以滿(mǎn)足，尤其是熱壓燒結法只能生產(chǎn)長(cháng)度為300mm以?xún)鹊膯沃О胁模虼酥荒芡ㄟ^(guò)多節分段焊接固定在襯管上以達到一定的長(cháng)度要求，這樣增加了生產(chǎn)的步驟,提高了靶材生產(chǎn)的成本。等離子噴涂旋轉靶材，是將金屬或非金屬?lài)娡糠墼诘入x子焰流中加熱到熔化或半熔化狀態(tài)。       熱噴涂技術(shù)將會(huì )是一種可能降低SOFC制造成本的關(guān)鍵技術(shù)，熱噴涂可以設計制備特定孔隙率的高電導率多孔電極。在典型的SOFC結構中，不同的電池功能層往往采用不同的材料，電池內有可能包含的材料包括氧化物、合金以及金屬陶瓷。此外，熱噴涂技術(shù)操作簡(jiǎn)單，成本低廉。冷噴涂涂層也應用廣泛，冷噴涂Ti的涂層具有很高的性能密度比及耐腐蝕能力。噴涂中的氧化和燃燒現象，殘余應力低，結合強度高，提高。兩種鋁涂層的硬度為72HV0.04和58HV0.04，涂層的硬度較高。兩種涂層與基體的結合強度為15MPa和16MPa。濺射靶材根據材料可分為金屬材料(純金屬鋁/鈦/銅/鉭等)、合金材料(鎳鉻/鎳鈷合金等)、無(wú)機非金屬(陶瓷化合物：氧化物/硅化物/碳化物等)、復合材料靶材。       按使用的原材料材質(zhì)不同，濺射靶材可分為金屬/非金屬單質(zhì)靶材、合金靶材、化合物靶材等。濺射鍍膜工藝可重復性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結合力強等優(yōu)點(diǎn)，已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，各種類(lèi)型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應用，因此，對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場(chǎng)應用量大的PVD鍍膜材料。       靶坯與背板綁定完成后，需要采用水浸式超聲波掃描儀進(jìn)行粘結層的檢測驗粘結面積是否達標。機械加工：靶坯需要進(jìn)行準確的機械成型加工，用于與靶坯復合使用的背板，由于承擔與鍍膜設備配合、承受高壓水冷等作用，需要具備非常高的尺寸精度與機械精度，加工難度較高，尤其是帶內循環(huán)水路的背板，由于材質(zhì)的特殊性，水路的密閉焊接非常困難，需要用到特種焊接工藝。金屬化：靶坯與背板在綁定之前，為增強靶材和靶材與焊料的金屬潤濕性能，需要進(jìn)行焊合面的預處理，使之表面鍍層過(guò)渡層。綁定：大部分靶材由于材料的物理或者化學(xué)性能受限，不可直接裝機鍍膜使用，需要采用金屬焊料將靶坯與背板相互焊合連接，并且表面有效粘結率需要達到大于95%的大面積焊合。整個(gè)過(guò)程需要在高溫和高壓下進(jìn)行。       真空鍍膜設備目前主要用于塑料薄膜、金屬、燈具、陶瓷、玻璃等制品表面蒸鍍金屬薄膜、七彩膜、仿金膜等，從而獲得光亮、美觀(guān)、廉價(jià)的塑料，陶瓷等表面金屬化制品。廣泛應用于各種塑料玩具、塑料日用裝飾品、人造首飾、圣誕裝飾品、家用電器裝飾、電器儀表、裝飾、燈具的表面金屬化鍍膜。齊全的真空鍍膜設備要求有真空鍍膜機、清洗裝置、冷卻裝置以及真空鍍膜檢測裝置，目前檢測裝置可以選擇在真空鍍膜機上安裝光密度在線(xiàn)檢測儀來(lái)連續監控真空鍍膜在線(xiàn)生產(chǎn)的產(chǎn)品鍍膜厚度的品質(zhì)。那么我們應該如何選購合適的真空鍍膜機呢？應該從已下幾個(gè)方面考慮：，根據要鍍膜工件的材質(zhì)，需要鍍出來(lái)的是什么樣效果來(lái)選購真空鍍膜機的種類(lèi)。       在真空室的左右兩側設置左右大門(mén)，而在其中配裝蒸發(fā)裝置和磁控裝置，可在該雙門(mén)上預留該兩裝置的接口，以備需要時(shí)換裝。真空鍍膜機一般都是由真空系統、蒸發(fā)系統、薄膜卷繞系統、冷卻系統、控制系統等主要部分組成。當薄膜運行速度達到一定數值后，打開(kāi)擋板使氣態(tài)鋁微粒在移動(dòng)的薄膜基材表面沉積、冷卻即形成一層連續而光亮的金屬鋁層。通過(guò)控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、基材薄膜的移動(dòng)速度等來(lái)控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在250～500。而蒸發(fā)真空鍍膜機是專(zhuān)業(yè)在塑料表面進(jìn)行蒸發(fā)鍍鋁、鉻、一氧化硅的專(zhuān)用設備，鍍出的膜層牢固且細密，是工業(yè)化生產(chǎn)的理想設備，其特點(diǎn)是它的環(huán)保性，真空鍍膜設備屬于無(wú)三廢、純凈的清潔生產(chǎn)設備。磁控濺射靶材是真空磁控濺射鍍膜的核心部件。